灰階微影蝕刻之正型光阻

產品編號 :006
ma-P 1275G是一款專門為灰階微影製程所設計的厚膜正型光阻。

 

 

 

材料特性:

- 低對比形成灰階造型

- 膜厚達60微米以上

- 微結構深度可能範圍50-60微米

- 顯影於THAM類鹼性水溶液

- 於電鍍製程具有高穩定性

- 蝕刻圖案具有良好熱穩定性

 

 

 

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產品描述